光刻机是谁发明的
作者：怪胎
更新时间：2022-12-01 01:52:08
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最佳答案法国人Nicephore niepce。尽管光刻机发明的时间较早，但并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别，在塑料板上通过铜线路制作，让电路板得以普及，短期之内就成为了众多电子设备领域中关键材料之一。
法国人Nicephore niepce。虽然光刻机发明较早，但直到第二次世界大战，技术应用于印刷电路板，使用材料和早期发明材料也有很大差异，通过铜线在塑料板上，使电路板普及，短期内成为许多电子设备领域的关键材料之一。
光刻机：
光刻机（Mask Aligner） 又称：掩模针对曝光器、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心设备。它使用类似的照片印刷技术，通过光线曝光将掩膜版本上的精细图形印刷到硅片上。
根据操作简单性，光刻机一般分为手动、半自动、全自动三种。
A手动：指通过手动旋钮改变X轴的对准调整方法，Y轴和thita从角度完成对准，度不高；
B半自动:指可通过电动轴对准的对准CCD定位调和；
C自动化：指从基板上下载，通过程序控制曝光时间和循环，自动光刻机主要满足工厂处理量的需要。
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