duv和euv技术区别
作者：孤弃
更新时间：2023-01-06 19:49:16
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最佳答案DUV是深紫外线，EUV是极深紫外线。从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
DUV是深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是极为深紫外线（Extreme Ultraviolet Lithography）。从制程范畴来说，DUV大部分只有保证25nm，Intel凭着双工作台的方式做到了极致10nm，但却不能达到10nm下面。仅有EUV能够满足10nm以内的晶圆制造，而且还可以向5nm、3nm再次延伸。
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